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简述光刻机对于曝光系统的具体要求

发布时间:2014-12-22

    据一些激光全息光刻机厂家了解到,设备曝光系统最核心的部件之一是紫外光源,因而需要对其要求做好了解,从而使其发挥出性能。

    曝光系统的功能主要有平滑衍射效应、实现均匀照明、滤光和冷光处理、实现强光照明和光强调节等,首先要求有适当的波长。波长越短,可曝光的特征尺寸就越小,波长越短,就表示光刻的刀锋越锋利,刻蚀对于精度控制要求越高,因为衍射现象会更严重,其次有足够的能量,能量越大,曝光时间就越短,且曝光能量必须均匀地分布在曝光区,一般采用光的均匀度或者叫 不均匀度 光的平行度等概念来衡量光是否均匀分布。

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