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对比不同结构光刻机的性能特点

发布时间:2014-12-11

    随着近几年技术的不断革新,出现了激光全息光刻机等纵多优质的产品,从而带动了行业的整体发展,下面就和小编来对其技术做简要的了解。

    据了解,接近式光刻是发展最早的一种曝光方式,它采用11方式复印掩膜版上的图形,这类光刻机结构简单,价格便宜,发展也较成熟,但其分辨率不高,通常最高可达1um 左右,此外由于掩膜版直接和光刻胶接触会造成掩膜版的沾污,接近式光刻机的分辨率由下式决定,另外投影式光刻机在现代光刻中占主要地位,其主要优点是分辨率高,不沾污掩膜版,重复性好,使用寿命长,印刷效果好,因而得到了用户的一致好评,进一步提高了产品的质量。

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