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就光刻机的光刻工艺做全面了解

发布时间:2014-12-11

    据一些激光全息光刻机生产厂家了解到,目前光刻机凭借其优异的质量在行业中得到了广泛的应用,大大加快了生产的效率,降低了生产成本的消耗。

    光刻工艺通过曝光的方法将掩模上的图形转移到涂覆于硅片表面的光刻胶上,然后通过显影,刻蚀等工艺将图形转移到硅片上,由于光刻工艺直接决定了大规模集成电路的特征尺寸,是大规模集成电路制造的关键工艺。因而需要格外注意,目前占光刻技术主导地位的仍然是紫外光刻,按波长可分为紫外、深紫外和极紫外光刻,按曝光方式可分为接触/接近式光刻和投影式光刻。接触/接近式光刻通常采用汞灯产生的紫外波段,而投影式光刻通常采用准分子激光器产生的深紫外和极紫外光,从而保障其性能的发挥。

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