传统的光刻工艺难以满足如此的精度要求
发布时间:2020-09-10
随着时代的进步,集成电路科技的进步与发展,对光刻工艺的精度提出了更高的要求。传统的光刻工艺难以满足如此的精度要求。光刻机性能的提高势在必行。传统光刻机的投影物镜多采用全折射式设计方案,即物镜全部由旋转对准装校的透射光学元件组成。其优点是结构相对简单,易于加工与装校,局部杂散光较少。为了实现更大的数值孔径,近年来设计者普遍采用折反式设计方案。折反式投影物镜由透镜和反射镜组成。
上一条:大大提高设备的生产性能
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