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对比接近式光刻和投影式光刻技术之间的差别

发布时间:2014-11-25

    据一些厂家了解到,目前为满足各行业不同的使用需求,对激光全息光刻机的技术研发也不断地深入,因而出现了多种光刻技术,下面就和小编来做个了解吧。

    像是紫外光刻技术,它是目前制造激光全息光刻中应用最广的一种,按波长可分为紫外、深紫外和极紫外光刻,按曝光方式则可分为接近式光刻和投影式光刻,其中接近式光刻是最常见的曝光方式,它采用11方式复印掩膜版上的图形,具有结构简单,价格便宜,发展也较成熟等特点,但由于其分辨率不高,且由于掩膜版直接和光刻胶接触,会造成掩膜版的沾污,因而其使用比较有局限性而,投影式光刻则具有分辨率高,不沾污掩膜版,重复性好等优点,因而是目前较长使用的一种技术。

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