何为光刻机

发布时间：2020-09-10

   光刻机主要用于：集成电路、光电子器件、半导体元器件、光学器件研制和生产。主要是由高精度对准工作台、双目分离视场立式显微镜、双目分离视场卧式显微镜、数字式摄像头、计算机成象记忆系统、多点光源曝光头、PLC控制系统、气动系统、真空系统、直联式真空泵、二级防震工作台和附件箱等组成。

   现在集成电路科技的进步与发展，对光刻工艺的精度提出了更高的要求。传统的光刻工艺难以满足如此的精度要求。传统光刻机的投影物镜多

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